Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Materiały Elektroniczne 2008 T.36 nr 4

Tytuł:
Materiały Elektroniczne 2008 T.36 nr 4
Evaluation of electrical properties of Eu and Pd-doped titanium dioxide thin films deposited on silicon
Evaluation of electrical properties of Eu and Pd-doped titanium dioxide thin films deposited on silicon = Badanie właściwości elektrycznych cienkich warstw TiO2 domieszkowanych Eu i Pd naniesionych na podłoża krzemowe
Autorzy:
Prociow Eugeniusz L.
Słowa kluczowe:
własności elektryczne
TiO2:(Eu, Pd)
heterojunction
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
Elektronika - czasopismo - materialy
heterozłącze
Electronic - journal - materials
electrical properties
Data publikacji:
2008
Linki:
https://rcin.org.pl/dlibra/publication/edition/7584/content  Link otwiera się w nowym oknie
Wydawca:
ITME
Forma i typ:
Tekst
Tekst
Powiązania:
Materiały Elektroniczne
Electronic Materials
Dostawca treści:
Nieznany
Książka
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Bibliogr. s. 155

149-156 s. : il. 24 cm.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies