Temat: atomic layer deposition method

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Effect of heat treatment on the surface morphology and optical properties of the Al2O3 thin film for use in solar cells
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Tematy:: antireflection coating
atomic layer deposition method
solar cells; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2021
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/2063888.pdf Link otwiera się w nowym oknie
Źródło:: Opto-Electronics Review; 2021, 29, 4; 181--186
1230-3402
Pojawia się w:: Opto-Electronics Review
Opis:: The technology of manufacturing silicon solar cells is complex and consists of several stages. The final steps in succession are the deposition of antireflection layer and discharge contacts. Metallic contacts are usually deposited by the screen printing method and then, fired at high temperature. Therefore, this article presents the results of a research on the effect of heat treatment on the properties of the Al2O3 thin film previously deposited by the atomic layer deposition method. It works well as both passivating and antireflection coating. Moreover, heat treatment affects the value of the cell short-circuit current and, thus, its efficiency. The surface morphology, optical and electrical properties were investigated, describing the influence of heat treatment on the properties of the deposited layers and the manufactured solar cells.
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: The Al₂O₃/TiO₂ double antireflection coating deposited by ALD method
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Orwat, Justyna
Kulesza-Matlak, Grażyna
Tematy:: antireflection coating
atomic layer deposition method
solar cells; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2022
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/2174838.pdf Link otwiera się w nowym oknie
Źródło:: Opto-Electronics Review; 2022, 30, 3; art. no. e141952
1230-3402
Pojawia się w:: Opto-Electronics Review
Opis:: Al₂O₃/TiO₂ thin films were deposited onto monocrystalline silicon surfaces using an atomic layer deposition. Their surface morphology and optical properties were examined for their possible use in solar cells. The surface condition and chemical composition were characterized using a scanning electron microscope and the thickness was measured using a spectroscopic reflectometer. The refractive index and the reflection characteristics were determined. First, the optical properties of the Al₂O₃ thin filmand its influence on recombination in the semiconductor were examined. In this way, it can fulfil a double role in a solar cell. Since reflection reduction was only achieved in a narrow range, it was decided to use the Al₂O₃/TiO₂ system. Thanks to this solution, the light reflection was reduced in a wide range (even below 0.2%).
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Abrasion Resistance Test of the Modified Ti13Nb13Zr Alloy Surface
Badanie odporności na ścieranie zmodyfikowanej powierzchni stopu Ti13Nb13Zr
Autorzy:: Lisoń-Kubica, Julia
Taratuta, Anna
Antonowicz, Magdalena
Basiaga, Marcin
Tematy:: titanium alloys
ALD method
Atomic Layer Deposition
surface modification
bone system
antibacterial coatings
stopy tytanu
ALD
modyfikacja powierzchni
układ kostny
powłoki antybakteryjne; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2023
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/27310187.pdf Link otwiera się w nowym oknie
Źródło:: Tribologia; 2023, 2; 55--64
0208-7774
Pojawia się w:: Tribologia
Opis:: The research describes an atomic layer deposition (ALD) coating method and its application on a new generation of titanium alloy (Ti13Nb13Zr) for biomedical applications. The study aimed to assess the physicochemical properties and mechanics of a titanium alloy coated with titanium oxide (TiO2) or aluminium oxide (Al2O3) using the ALD method. The physicochemical properties of the surface coatings were evaluated through microscopic observations, potentiodynamic tests, surface wettability tests, optical profilometry scratch tests, and abrasion tests. Based on the data obtained, different physicochemical properties of the alloy with titanium nitride and titanium oxide coatings were found. Such differences were dependent on the number of cycles used and the temperature of the manufacturing process. The coatings have reduced the abrasion coefficient, thus improving the abrasion resistance of the Ti13Nb13Zr alloy, which enables their use within the skeletal system. These findings are of practical importance for applying this type of surface modification to various types of miniaturised implants used in the skeletal system.
Badania polegają na opisaniu metody osadzania powłok atomowych i możliwości jej zastosowania na stopie tytanu nowej generacji do zastosowań biomedycznych. Celem pracy jest ocena wpływu właściwości fizyko chemicznych i mechanicznych zmodyfikowanego stopu Ti13Nb13Zr powłoką tlenku tytanu (TiO2) oraz tlenku glinu (Al2O3) przy użyciu metody ALD. W ramach oceny własności fizykochemicznych tak powstałych powłok powierzchniowych przeprowadzono obserwacje mikroskopowe (SEM), badania potencjodynamiczne, badania zwilżalności powierzchni, profilometrię optyczną, scratch test oraz badania ścieralności powłok. Na podstawie uzyskanych danych stwierdzono zróżnicowane własności fizykochemiczne stopu z powłokami tlenku glinu oraz tlenku tytanu w zależności od zastosowanej ilości cykli oraz temperatury procesu wytwarzania. Powłoki mają obniżony współczynnik ścieralności, poprawiając tym samym odporność na ścieranie stopu Ti13Nb13Zr, co umożliwia ich zastosowanie w układzie kostnym. Uzyskana na tej podstawie wiedza ma znaczenie praktyczne dla zastosowania tego typu modyfikacji powierzchni dla różnych rodzajów zminiaturyzowanych implantów znajdujących swoje zastosowanie w układzie kostnym.
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "atomic layer deposition method" wg kryterium: Temat