Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "RF" wg kryterium: Temat


Tytuł:
Comprehensive Analysis of Ion Beam Induced Stainless Steel Surface Morphology
Autorzy:
Kowalski, Z.
Tematy:
79.20.Rf
Pokaż więcej
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1503932.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
Surface morphology, one of the various physical properties modified by ion beam irradiation, is usually characterized by well known and very often investigated surface topography and surface roughness. The paper presents two additional aspects of surface morphology modification (called by the author: profile variability and surface morphology arrangement) that seem to be good complementary indicators of morphology changes. Surface micro- and nanotopographies were observed by means of scanning electron and near-field microscopes. High quality profilograph and atomic force microscope were utilised to measure main selected roughness parameters (based on the well known surface profiles). To detect any profile shape alteration during ion beam bombardment fractal analysis was used, and especially fractal dimension D that can give information about a rate $p_{v}$ of profile shape variability. Surface morphology arrangement, i.e. a question whether it is random or determined, was studied with the use of frequency plots resulting from harmonic analysis of profiles. Surface topographies, selected roughness parameters, fractal dimensions and frequency plots relating to stainless steel of 1H18N9T (made in Poland) bombarded with perpendicular (Θp = 0°) as well as very inclined (Θp = 85-87°) beam were examined. Low energy (0.8 keV) broad argon ion beam and neutralized narrow argon or krypton ion beams (up to 6 keV) were used in the experiments.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Trajectory Dependent Scattering οf Li Ions by Al Substrate
Autorzy:
Král, V.
Tematy:
79.20.Rf
Pokaż więcej
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1807791.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
The trajectory dependent scattering of Li ions by Al substrate is studied. It is shown that besides primary elastic peak there exists a subsidiary peak about one-third energy of incident ions. The dependence of trajectory is achieved by shifting of the incident beam along x axis. The results have been compared with the results of Na scattering that have been published recently.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Evolution and recent advances in RF/microwave transistors
Autorzy:
Liou, J.J.
Schwierz, F.
Tematy:
microwave devices
RF devices
heterostructures
HEMT
HBT
frequency limits
RF CMOS
Pokaż więcej
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308200.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
Most applications for radio frequency/microwave (thereafter called RF) transistors had been military oriented in the early 1980s. Recently, this has been changed drastically due to the explosive growth of the markets for civil wireless communication systems. This paper gives an overview on the evolution, current status, and future trend of transistors used in RF electronic systems. Important background, development and major milestones leading to modern RF transistors are presented. The concept of heterostructure, a feature frequently used in RF transistors, is discussed. The different transistor types and their figures of merit are then addressed. Finally an outlook of expected future developments and applications of RF transistors is given.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Wskaźnik oddawania barw Ra a wskaźnik wierności barwy Rf – analiza jakości światła iluminatów CIE F ocenianych według metody IES TM-30-15 oraz CIE 13.3 i CIE 224
Color rendering index Ra and color fidelity index Rf – analysis of light sources color redition made for CIE standard illuminant F evaluated according to method IES TM-30-15, CIE 13.3 and CIE 224
Autorzy:
Kowalska, J.
Fryc, I.
Tematy:
oddawanie barw
CIE Ra
CIE Rf
TM-30-15 Rf
color rendering
Pokaż więcej
Wydawca:
Politechnika Gdańska. Wydział Elektrotechniki i Automatyki
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/268090.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
Artykuł przedstawia wyniki analizy porównawczej trzech wskaźników oceny jakości oddawania barw źródeł światła. Porównanie przeprowadzono dla metod określania jakości barwnej światła rekomendowanych przez CIE oraz IES. Ocena użyteczności oraz możliwości interpretacji wartości wskaźników CIE Ra, CIE Rf oraz IES TM-30-15 Rf została przeprowadzona na grupie 12 znormalizowanych źródeł fluorescencyjnych (iluminatów FL CIE). W artykule wykazano, że interpretacja wskaźników wierności barwy dla źródeł fluorescencyjnych może odbywać się w bardzo zbliżony sposób jak miało to miejsce w przypadku Ra, a nowa metoda nie wprowadza drastycznych zmian w wartości wskaźnika. Pozwala to na zachowanie ciągłości w interpretacji nowego wskaźnika dla najbardziej popularnych źródeł światła.
For many years, the generally recommended and described in the standards, the measure of determining the quality of the colored light was the CIE color rendering index Ra index. In 2015 IES recommended new measures for this purpose – color fidelity index Rf and color gamut Rg, and in 2017 CIE introduced their Rf index. The paper presents the results of a comparative analysis of three indices for the quality of light sources – Ra and Rf according to CIE recommendations and Rf according to IES TM-30-15 documents. The research presented in the article is aimed at presenting the possibilities of interpreting the new CIE and IES indicators designed for description of light color quality. The assessment of usability and the possibility of interpreting the value of given indices was carried out on a group of 12 normalized fluorescent sources (CIE standard F illuminants). The article shows that the interpretation of color fidelity indices for standard fluorescent sources can take place in a very similar way as in the case of Ra, and the new method does not introduce drastic changes in the value of those index. This allows to keep continuity in interpreting the new index for the most popular light sources.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Aktywność antybakteryjna domieszkowanych srebrem powłok TiO2 wytwarzanych metodą RF PECVD
Antibacterial activity of Ag doped TiO2 films deposited by RF PECVD method
Autorzy:
Owczarek, S.
Sobczyk-Guzenda, A.
Szymanowski, H.
Volesky, L.
Jakubowski, W.
Gazicki-Lipman, M.
Tematy:
ditlenek tytanu
srebro
bakteriobójczość
RF PECVD
titanium dioxide
silver
antibacterial properties
RF PECVD technique
Pokaż więcej
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/286233.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
W ramach pracy wykorzystano metodę RF PECVD (Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) do wytworzenia powłok TiO2-Ag. Domieszkowanie ditlenku tytanu srebrem miało na celu intensyfikację właściwości fotokatalitycznych i bakteriobójczych wykazywanych przez ten materiał. Związkiem wyjściowym jonów srebra był acetyloacetonian srebra. Kontrola jego temperatury umożliwiła wytworzenie na podłożach krzemowych powłok o różnej zawartości srebra. Ze względu na to, że korzystny wpływ jonów srebra na powłokę TiO2 występuje przy ich niskim stężeniu, sterowano temperaturą sublimatora w taki sposób aby zawartość Ag w powłoce nie przekraczała kilku procent. Tak wytworzone powłoki zbadano na spektrometrze EDX (Energy Dispersive X-Ray) pod kątem składu chemicznego. Analiza wyników dostarcza informacji o wprost proporcjonalnym wzroście udziału atomów Ag do wzrostu temperatury ich związku wyjściowego. Po naświetleniu powłok światłem z zakresu UV określono wartość fotozwilżalności przez wodę oraz przeżywalności bakterii E. coli na ich powierzchni. Z badań kąta zwilżania wynika, że zaledwie kilkuminutowe naświetlanie promieniowaniem UV może wystarczyć do uzyskania przez powłokę właściwości superhydrofilowych. Najsilniejszą zwilżalność powierzchni wykazuje powłoka o najmniejszej zawartości srebra (0,03%). W przypadku badań bakteriobójczych czas naświetlania (2 lub 4 min.) promieniowaniem UV nie wpływa w sposób istotny na wartość przeżywalności bakterii. Bardziej istotnym czynnikiem jest zawartość srebra w powłoce - zbyt duża ilość powoduje obniżenie właściwości bakteriobójczych.
In present work RF PECVD (Radio Frequency Chemical Vapour Deposition) technique was used to prepare TiO2-Ag coatings. The purpose of preparing silver doped titanium dioxide coatings was to step up photocatalytic and antibacterial properties of this substance. Silver acetylacetonate was the precursor of silver ions. Thanks to temperature control it was possible to prepare coatings of different Ag contain at silicon substrates. The temperature was controlled so that not to exceed a few percentage amount of silver in the coating, because its favourable influence on TiO2 coatings exists when concentration of silver ions is low. Coatings were examined under EDX (Energy Dispersive X-Ray) spectrometer to check atomic contain of elements. The results show that the percentage of Ag atoms increases directly proportionally to the temperature increase of its precursor. After exposition to UV radiation the water photo hydrophillic and bactericidal properties of coatings were measured. The water contact angle measurements have shown that super hydrophillic properties were obtained just after few minutes of UV radiation exposition. The coating of lowest silver contain (0,03%) exhibit the lowest water contact angle. In case of bactericidal studies the time of UV radiation (2 or 4 minutes) does not influence much the bacteria survival rate. Silver content is a more important factor - to big amount causes decreasing of antibacterial properties of the coating.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies