Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "nanolithography" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Nanoscale wear evolution on a polystyrene/poly (n-butyl methacrylate) blend
Autorzy:
Gnecco, Enrico
Ma, Chengfu
Khaksar, Hesam
Janiszewska, Natalia
Awsiuk, Kamil
Budkowski, Andrzej
Opis:
We have investigated the formation of surface nanostructures caused by early-stage wear of polystyrene (PS) and poly(n-butyl methacrylate) (PnBMA) thin films as pure materials, or mixed in the form of a 1:1 blend. To this end, atomic force microscopy (AFM) was used to repeatedly scratch the sample surfaces, measure the accompanying friction forces, and image the resulting features. In the very first stage ordered ripples are formed in all cases. As the process goes on, hillocks are nucleated on the crests of the ripples, and progressively released in the form of nanoplastics while the ripples become wider and less regular. On the blend surface the more compliant PnBMA presents more corrugated ripple structures and larger friction oscillations than PS in the beginning, but the scenario becomes again more complex as the wear test is repeated and the original ‘rim and hole’ geometry of the blend is disrupted. Quite noticeably, the wear damage is reduced if the surfaces are scraped forth and back and not only in one direction. The influence of the scan pattern (distance between scan lines) and of the normal force (well below and above the force threshold of about 50 nN leading to surface ripples in the first stage) have been also addressed.
Dostawca treści:
Repozytorium Uniwersytetu Jagiellońskiego
Artykuł
Tytuł:
Development and utilization of the nanomarkers for precise AFM tip positioning in the investigation of the surface morphology change
Autorzy:
Sikora, A
Tematy:
atomic force microscopy (AFM)
material science
environmental tests
nanolithography
nanomarker
Pokaż więcej
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/174750.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
The investigation of the surface properties changes at micrometer and nanometer scale, due to the presence of various factors such as: temperature, solar radiation or magnetic field, requires suitable diagnostic methods. Atomic force microscopy (AFM) is one of the most popular measurement techniques providing necessary resolution. As complex experiments may require multiple moving of the sample between instruments and AFM, one can find quantitative comparison of the results unreliable when the measurements are performed without precise positioning of investigated surface and different areas are analyzed. In this work, the utilization of the nanoscratching method in terms of development of the nanomarkers set is presented, as the solution for precise positioning of the sample in order to perform the multi-step imaging of small surface area (1 μm×1 μm). Various materials were used to verify the versatility of the developed method. Also, the observation of the influence of the UV radiation on the polycarbonate sample was demonstrated as the example proving the application potential of the approach.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Pomiary energii promieniowania skrajnego nadfioletu
Energy measurement of extreme ultraviolet radiation
Autorzy:
Mikołajczyk, J.
Bielecki, Z.
Tematy:
optoelektronika
detekcja sygnałów optycznych
pomiar energii
promieniowanie EUV
nanolitografia
optoelectronics
detection of optical signals
energy measurement
EUV radiation
nanolithography
Pokaż więcej
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Polskie Towarzystwo Diagnostyki Technicznej PAN
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/327398.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
W pracy omówiono system detekcji promieniowania skrajnego nadfioletu. Umożliwia on pomiar energii impulsów promieniowania w zakresie długości fal (13,5 š 0,5) nm. Przeprowadzone analizy i badania miały na celu określenie możliwości odniesienia wyników uzyskanych w tym zakresie długości fal do pasma (13,5 š 0,13) nm. W pracy zaprezentowano wyniki pomiaru widma promieniowania emitowanego ze źródła laserowo-plazmowego z ksenonową tarczą gazową dla różnych warunków wytwarzania plazmy. Na podstawie rezultatów otrzymanych za pomocą wzorcowego przyrządu E-Mon wyznaczono wartość tzw. skalibrowanej czułości widmowej systemu, która umożliwia odniesienie wyników pomiarów do pasma (13,5 š 0,13) nm.
The paper presents the IOE detection system for energy measurement of EUV radiation. The system measures energy of radiation pulses within the wavelength range of (13,5 š 0,5) nm. The described analyses and experiments determine possibilities of reference of results obtained from the system to the spectral range of (13,5 š 0,13) nm. The changes of radiation spectrum emitted from a laser-plasma source with xenon gas-puff target are presented. The results obtained from the standard E-Mon meter make it possible to determine a calibrated sensitivity of the IOE detection system within the wavelength range of (13,5 š 0,13) nm.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies