Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "piezoconductivity" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Behavioral modeling of stressed MOSFET
Autorzy:
Gniazdowski, Z.
Tematy:
piezoconductivity
stressed MOSFET
strained silicon
MOSFET model
SPICE model
Pokaż więcej
Wydawca:
Warszawska Wyższa Szkoła Informatyki
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/91419.pdf  Link otwiera się w nowym oknie
Opis:
In this paper piezoconductivity phenomenon in MOSFET channel is discussed and extension of drain current model with possibility of stress consideration is proposed. Analysis of obtained model combined with examination of stress components inherent in the MOSFET channel as well as distributions of specific piezoconductance coefficients on a plane of channel can show which directions of transistor channel are desirable for improvement of MOSFET performances. This model gives possibility to predict optimal transistor channel orientation, for the given stress state in MOSFET channel. Possible simplification of this model is considered. In particular, stress state and significant piezoconductance coefficient distributions on planes f100g, f110g as well as f111g are analyzed. For assumed particular cases of stress state in the channel, final models of MOSFT for considered specific planes are given.
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Behavioral modeling of stressed MOSFET
Autorzy:
Gniazdowski, Zenon
Wydawca:
Warszawska Wyższa Szkoła Informatyki
Cytata wydawnicza:
Gniazdowski, Z. (2015). Behavioral modeling of stressed MOSFET. Zeszyty Naukowe WWSI, 9(13), 103-126.
Opis:
In this paper piezoconductivity phenomenon in MOSFET channel is discussed and extension of drain current model with possibility of stress consideration is proposed. Analysis of obtained model combined with examination of stress components inherent in the MOSFET channel as well as distributions of specific piezoconductance coefficients on a plane of channel can show which directions of transistor channel are desirable for improvement of MOSFET performances. This model gives possibility to predict optimal transistor channel orientation, for the given stress state in MOSFET channel. Possible simplification of this model is considered. In particular, stress state and significant piezoconductance coefficient distributions on planes {100}, {110} as well as {111} are analyzed. For assumed particular cases of stress state in the channel, final models of MOSFT for considered specific planes are given.
Dostawca treści:
Repozytorium Centrum Otwartej Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies